- 收听数
- 1
- 听众数
- 12
- 最后登录
- 2022-3-18
- QQ
 - UID
- 2572
- 阅读权限
- 30
- 帖子
- 251
- 精华
- 0
- 在线时间
- 387 小时
- 注册时间
- 2013-1-13
 
- 科研币
- 35
- 速递币
- 3415
- 娱乐币
- 44698
- 文献值
- 0
- 资源值
- 0
- 贡献值
- 1
|
10速递币
题名 | Low-Temperature Crystallization of Hydrogenated Amorphous Silicon Induced by Nickel Silicide Formation | 作者 | Yunosuke Kawazu, Hiroshi Kudo, Seinosuke Onari and Toshihiro Arai | 杂志 | Jpn. J. Appl. Phys. | 年|卷|期 | 29,12,1990 | 页码 | 2698 | 链接 | http://iopscience.iop.org/1347-4065/29/12R/2698 |
|
|