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标题: 消除薄层(TLC)拖尾方法 [打印本页]

作者: rydberg    时间: 2012-10-11 21:47
标题: 消除薄层(TLC)拖尾方法
薄层色谱是样品与硅胶之间的吸附<解吸附的过程,当你的样品与硅胶吸附能力过强的时候,就会造成拖尾(不考虑过载,过载大多会造成拖尾)。这时候需要更强的溶剂系统来解吸附,因此对于羧酸类化合物,需要醋酸或者甲酸来加强洗脱极性;另外,羧酸的电离也会造成拖尾,因此加入醋酸或者甲酸抑制电离,使得薄层点比较圆。同理,对于碱性物质,也需要加碱(通常是三乙胺、二乙胺或者氨水)来加强洗脱极性和抑制电离。<br><br>由于普通的硅胶板都是弱酸性的,所以对于某些酸敏感的化合物,需要用碱板。在铺板时,用0.05~0.5%的NaOH代替水来铺就可以得到碱板了
作者: 岚霏    时间: 2012-10-18 19:39
在铺板时,用0.05~0.5%的NaOH代替水来铺就可以得到碱板了

xuexi
作者: 科研虫虫    时间: 2012-10-18 19:46
好专业.....过柱层析,分离纯品用的啊.
作者: expaper    时间: 2012-10-18 22:32
今天 这里帖子量还可以啊,呵呵
作者: tansuodangzhong    时间: 2012-10-18 22:43
很强很专业!
作者: 拿破仑    时间: 2012-10-19 14:47
很好 很专业  
作者: rydberg    时间: 2012-10-19 22:35
拿破仑 发表于 2012-10-19 14:47
很好 很专业

大家共同学习!




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