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标题: ISO 23812:2009 Method for depth calibration for silicon [打印本页]

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作者: Anthea14    时间: 2014-8-24 12:49
标题: ISO 23812:2009 Method for depth calibration for silicon

专利国别	English
专利名称	Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth calibration for silicon using multiple delta-layer reference materials
专利号	ISO 23812:2009
专利链接	https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:23812:ed-1:v1:en
标准国别	English
标准类别	Surface chemical analysis
标准名称	Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth calibration for silicon using multiple delta-layer reference materials
标准号	ISO 23812:2009
标准年份	2009-04
标准链接	https://www.iso.org/obp/ui/#iso:std:iso:23812:ed-1:v1:en

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作者: Ferrari    时间: 2014-8-24 12:49
链接: http://pan.baidu.com/s/1hqGbpp6 提取码站内了

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作者: Anthea14    时间: 2014-8-24 16:13

Ferrari 发表于 2014-8-24 12:49
链接: http://pan.baidu.com/s/1hqGbpp6 提取码站内了

非常感谢！好及时~

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